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          首臺先進封裝光刻機投用 獲國家發明專利授權22項
          • 點擊數:508     發布時間:2010-07-27 13:01:00
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          國家科技重大專項“極大規模集成電路制造裝備及成套工藝”項目有了新進展。
          關鍵詞:

              7月16日,國家科技重大專項“極大規模集成電路制造裝備及成套工藝”項目有了新進展。由上海微電子裝備有限公司生產的首臺先進封裝光刻機,正式銷售給江陰長電先進封裝有限公司并投入使用,標志著我國高端封裝關鍵設備創新取得突破,對提升我國集成電路制造的自主創新能力具有重要意義。該光刻機具有“大視場、大焦深、高套刻精度、邊緣曝光”等技術特點,可滿足8英寸及12英寸硅片封裝工藝新要求。目前,這一技術已申請了國家發明專利74項,獲國家發明專利授權22項,申請國際發明專利3項。在半年多的試運行期間,江陰長電利用該設備已成功完成第一批8英寸“重新布線及凸點工藝”產品的多層光刻生產任務。

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